概述：

采用落砂法評(píng)價(jià)被測(cè)樣品表面的耐損磨性能，適用于A1類(lèi)，A2類(lèi)突起路標(biāo)。A3類(lèi)可參照使用。
測(cè)試裝置構(gòu)成：
◆測(cè)試裝置由垂直導(dǎo)砂管，校正漏斗，過(guò)濾網(wǎng)，樣品架和砂子收集器組成。導(dǎo)砂管：可采用內(nèi)徑不小于150MM內(nèi)壁光滑的實(shí)壁塑料管組成，長(zhǎng)度為2850MM,導(dǎo)砂管的不垂直度不大于0.2°。
◆校正漏斗：校正漏斗的上口尺寸為120MM×40MM,高度100MM,四面坡角45°。上口四邊應(yīng)平直，尖銳，保證落在口邊上的砂子落入斗內(nèi)時(shí)不改變方向。該漏斗的作用是保證直接落入口內(nèi)的沙子不偏離地，盡可能垂直地沖擊突起路標(biāo)，而落到口外的沙子被偏離到斗外，不能沖擊突起路標(biāo)。校正漏斗應(yīng)能上下，左右，前后移動(dòng)，方便調(diào)整通過(guò)漏斗的砂量和均勻性。
◆過(guò)濾網(wǎng)：過(guò)濾網(wǎng)位于導(dǎo)砂管的上部，網(wǎng)孔尺寸為大于850UM的標(biāo)準(zhǔn)網(wǎng)。該過(guò)網(wǎng)的作用一是確立落砂的起始點(diǎn)，二是限制落砂的流速。要求落砂離網(wǎng)的距離不應(yīng)大于30MM。
◆樣品架：用于將被測(cè)樣品夾持穩(wěn)固，使樣品的基底面保持垂直，方便地將樣品與導(dǎo)砂管，校正漏斗對(duì)中，能自由調(diào)整被測(cè)樣品的高度使其上邊沿與漏斗上口保持不大于150MM，并能調(diào)整水平方向使樣品逆反射面底邊前沿與漏斗長(zhǎng)邊方向平行。樣品架不應(yīng)阻擋落砂的自由流動(dòng)。
◆收集器：可用1只300MM×500MM的搪瓷托盤(pán)，或其他容器。為了防止落入校正漏斗的砂子濺出或外部的砂子濺入，可用與漏斗下口相同的軟布罩將漏斗下口空間封圍。
試驗(yàn)步驟：
◆將設(shè)備和被測(cè)樣品安裝調(diào)整到位，并保證導(dǎo)砂管上部至被測(cè)樣品底面上邊沿的距離為3.00M±0.03M。
◆取足夠用的試驗(yàn)用砂，以0.4KG/MIN―1.0KG/MIN的速度均勻落入導(dǎo)砂管上部的過(guò)濾網(wǎng)上，注意觀察落砂沖擊樣品的均勻性和部位，并經(jīng)常按照B.6的方法校準(zhǔn)試驗(yàn)裝置的均勻性。
◆收集通過(guò)校正漏斗的砂子并稱重，稱重的砂子包括撞擊到樣品及樣品架上濺射到外部的砂子，但不含沒(méi)有通過(guò)漏斗的部分，當(dāng)發(fā)現(xiàn)收集的砂量不滿足2.5KG±0.050KG要求時(shí)，應(yīng)按照B.6的方法對(duì)試驗(yàn)裝置進(jìn)行校準(zhǔn)。
◆取下被測(cè)樣品，用軟布清潔后，測(cè)量被沖擊逆反射面的發(fā)光強(qiáng)度系數(shù)。
◆將用過(guò)的試驗(yàn)砂棄掉，試驗(yàn)用砂每個(gè)試驗(yàn)只用1次，不應(yīng)重復(fù)使用。
◆測(cè)試裝置校準(zhǔn)
落砂應(yīng)均勻地通過(guò)校正漏斗，其均勻性通過(guò)在漏斗下突起路標(biāo)的位置和高度上放置至少10個(gè)口徑約為10MM的小瓶來(lái)驗(yàn)證。當(dāng)足夠的沙子下落通過(guò)漏斗時(shí)，至少有1個(gè)小瓶收集到至少5G的砂子，收集*少的小瓶中沙子重量至少達(dá)到收集*多的小瓶中沙子重量的75％為測(cè)試裝置合格。在確定裝置的流動(dòng)穩(wěn)定性之后，視需要通過(guò)調(diào)整漏斗的上下和總用砂量來(lái)校準(zhǔn)其均勻性和通過(guò)漏斗的砂量。
◆ 測(cè)試裝置的修正
當(dāng)被測(cè)突起路標(biāo)底邊大于100MM時(shí)應(yīng)對(duì)整個(gè)裝置進(jìn)行修正，假設(shè)被測(cè)突起路標(biāo)底邊為（100+X）MM,則修正內(nèi)容如下：
 校正漏斗的上口長(zhǎng)邊為（120+X）MM;
 導(dǎo)砂管的內(nèi)徑應(yīng)至少（150+X）MM;
 c)  通過(guò)校正漏斗的試驗(yàn)砂的質(zhì)量應(yīng)為(2.5+0.020 8X)KG,允差±2％;
 d)  通過(guò)漏斗落砂的流速應(yīng)保持在（0.4+X/300）KG/MIN―(1+X/120)KG/MIN